光(guāng)學指紋模塊

       凱邁光(guāng)學指紋模塊是爲指紋識别産品生産商和(hé)方案設開發商設計的(de)一種二次開發模塊。基于凱邁10多(duō)年的(de)光(guāng)學指紋識别技術，凱邁光(guāng)學指紋模塊具有識别速度快(kuài)，精準度高(gāo)，誤識率低，體積小，容量大(dà)，自學習(xí)，防殘留指紋，防靜電，棱鏡面防水(shuǐ)，耐刮等特點。是中高(gāo)端指紋識别設備的(de)可(kě)靠選擇。